Propiedad intelectual Formación en PI Respeto por la PI Divulgación de la PI La PI para... La PI y… La PI en… Información sobre patentes y tecnología Información sobre marcas Información sobre diseños industriales Información sobre las indicaciones geográficas Información sobre las variedades vegetales (UPOV) Leyes, tratados y sentencias de PI Recursos de PI Informes sobre PI Protección por patente Protección de las marcas Protección de diseños industriales Protección de las indicaciones geográficas Protección de las variedades vegetales (UPOV) Solución de controversias en materia de PI Soluciones operativas para las oficinas de PI Pagar por servicios de PI Negociación y toma de decisiones Cooperación para el desarrollo Apoyo a la innovación Colaboraciones público-privadas Herramientas y servicios de IA La Organización Trabajar con la OMPI Rendición de cuentas Patentes Marcas Diseños industriales Indicaciones geográficas Derecho de autor Secretos comerciales Academia de la OMPI Talleres y seminarios Observancia de la PI WIPO ALERT Sensibilizar Día Mundial de la PI Revista de la OMPI Casos prácticos y casos de éxito Novedades sobre la PI Premios de la OMPI Empresas Universidades Pueblos indígenas Judicatura Recursos genéticos, conocimientos tradicionales y expresiones culturales tradicionales Economía Financiación Activos intangibles Igualdad de género Salud mundial Cambio climático Política de competencia Objetivos de Desarrollo Sostenible Tecnologías de vanguardia Aplicaciones móviles Deportes Turismo PATENTSCOPE Análisis de patentes Clasificación Internacional de Patentes ARDI - Investigación para la innovación ASPI - Información especializada sobre patentes Base Mundial de Datos sobre Marcas Madrid Monitor Base de datos Artículo 6ter Express Clasificación de Niza Clasificación de Viena Base Mundial de Datos sobre Dibujos y Modelos Boletín de Dibujos y Modelos Internacionales Base de datos Hague Express Clasificación de Locarno Base de datos Lisbon Express Base Mundial de Datos sobre Marcas para indicaciones geográficas Base de datos de variedades vegetales PLUTO Base de datos GENIE Tratados administrados por la OMPI WIPO Lex: leyes, tratados y sentencias de PI Normas técnicas de la OMPI Estadísticas de PI WIPO Pearl (terminología) Publicaciones de la OMPI Perfiles nacionales sobre PI Centro de Conocimiento de la OMPI Informes de la OMPI sobre tendencias tecnológicas Índice Mundial de Innovación Informe mundial sobre la propiedad intelectual PCT - El sistema internacional de patentes ePCT Budapest - El Sistema internacional de depósito de microorganismos Madrid - El sistema internacional de marcas eMadrid Artículo 6ter (escudos de armas, banderas, emblemas de Estado) La Haya - Sistema internacional de diseños eHague Lisboa - Sistema internacional de indicaciones geográficas eLisbon UPOV PRISMA UPOV e-PVP Administration UPOV e-PVP DUS Exchange Mediación Arbitraje Determinación de expertos Disputas sobre nombres de dominio Acceso centralizado a la búsqueda y el examen (CASE) Servicio de acceso digital (DAS) WIPO Pay Cuenta corriente en la OMPI Asambleas de la OMPI Comités permanentes Calendario de reuniones WIPO Webcast Documentos oficiales de la OMPI Agenda para el Desarrollo Asistencia técnica Instituciones de formación en PI Apoyo para COVID-19 Estrategias nacionales de PI Asesoramiento sobre políticas y legislación Centro de cooperación Centros de apoyo a la tecnología y la innovación (CATI) Transferencia de tecnología Programa de Asistencia a los Inventores (PAI) WIPO GREEN PAT-INFORMED de la OMPI Consorcio de Libros Accesibles Consorcio de la OMPI para los Creadores WIPO Translate Conversión de voz a texto Asistente de clasificación Estados miembros Observadores Director general Actividades por unidad Oficinas en el exterior Ofertas de empleo Adquisiciones Resultados y presupuesto Información financiera Supervisión
Arabic English Spanish French Russian Chinese
Leyes Tratados Sentencias Consultar por jurisdicción

Ley N° 2020:543 sobre modificaciones al Ley N° 1992:1685 de la Protección de las Topografías de Productos Semiconductores, Suecia

Atrás
Versión más reciente en WIPO Lex
Detalles Detalles Año de versión 2020 Fechas Entrada en vigor: 1 de septiembre de 2020 Adoptado/a: 17 de junio de 2020 Tipo de texto Principal legislación de PI Materia Esquemas de trazado de los circuitos integrados Materia (secundaria) Observancia de las leyes de PI y leyes conexas

Documentos disponibles

Textos principales Textos relacionados
Textos principales Textos principales Suecos Lag (2020:543) om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter         Inglés Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products        
 Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products

This is an unofficial translation of the law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products. Should there be any differences between this translation and the authentic Swedish text, the authentic Swedish text will prevail.

Law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products

Issued on the 17th of June 2020

Article 91 Anyone who intentionally or by gross negligence commits an act which infringes the right pursuant to Article 2, is punishable for topography violation with a fine or imprisonment for up to two years.

If the violation was committed intentionally and is considered serious, the person is punishable for serious topography violation with imprisonment for a minimum of six months up to a maximum of six years. When assessing whether the violation is serious, particular consideration has to be given to whether the act concerned

1. has been preceded by particular planning, 2. was part of criminal activities conducted in an organised form, 3. was conducted on a large scale, 4. was otherwise of a particularly dangerous nature. Anyone who has violated an injunction issued with a penalty of a fine

pursuant to Article 9 b, must not be held liable for infringements covered by the injunction.

Responsibility is assigned under Chapter 23 of the Criminal Code for attempting to commit or preparation of topography violation or serious topography violation.

The prosecutor may initiate a prosecution for violations only if the prosecution is motivated for being in the public interest. Act (2020:543).

This Act enters into force on the 1 September 2020.

1 Latest version 2005:304. 1

 Lag (2020:543) om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter

1

Svensk författningssamling

Lag om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter

Utfärdad den 17 juni 2020

Enligt riksdagens beslut1 föreskrivs att 9 § lagen (1992:1685) om skydd för

kretsmönster för halvledarprodukter ska ha följande lydelse.

9 §2 Den som uppsåtligen eller av grov oaktsamhet vidtar en åtgärd som

innebär intrång i rätten enligt 2 § döms för kretsmönsterbrott till böter eller

fängelse i högst två år.

Om brottet begåtts uppsåtligen och är att anse som grovt, döms för grovt

kretsmönsterbrott till fängelse i lägst sex månader och högst sex år. Vid

bedömningen av om brottet är grovt ska det särskilt beaktas om gärningen

1. har föregåtts av särskild planering,

2. har utgjort ett led i en brottslighet som utövats i organiserad form,

3. har varit av större omfattning, eller

4. annars har varit av särskilt farlig art.

Den som har överträtt ett vitesförbud enligt 9 b § får inte dömas till ansvar

för intrång som omfattas av förbudet.

För försök eller förberedelse till kretsmönsterbrott eller grovt kretsmönster-

brott döms det till ansvar enligt 23 kap. brottsbalken.

Åklagaren får väcka åtal för brott endast om åtal är motiverat från allmän

synpunkt.

Denna lag träder i kraft den 1 september 2020.

På regeringens vägnar

MORGAN JOHANSSON

Liv Bernitz

(Justitiedepartementet)

1 Prop. 2019/20:149, bet. 2019/20:NU18, rskr. 2019/20:312. 2 Senaste lydelse 2005:304.

SFS 2020:543 Publicerad

den 18 juni 2020

Textos adicionales Hoja modelo de la OMC para la presentación de notificaciones (3 texto(s)) Hoja modelo de la OMC para la presentación de notificaciones (3 texto(s)) Francés Loi n° 2020:543 portant modification de la loi n°(1992:1685) sur la protection des topographies de produits semi-conducteurs Español Ley N° 2020:543 sobre modificaciones al Ley N° 1992:1685 de la Protección de las Topografías de Productos Semiconductores Inglés Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products
 Act (2020:543) Amending Act (1992:1685) on the Protection of Topographies for Semiconductor Products

This is an unofficial translation of the law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products. Should there be any differences between this translation and the authentic Swedish text, the authentic Swedish text will prevail.

Law (2020:543) amending the Act (1992: 1685) on the Protection of Typographies for Semiconductor Products

Issued on the 17th of June 2020

Article 91 Anyone who intentionally or by gross negligence commits an act which infringes the right pursuant to Article 2, is punishable for topography violation with a fine or imprisonment for up to two years.

If the violation was committed intentionally and is considered serious, the person is punishable for serious topography violation with imprisonment for a minimum of six months up to a maximum of six years. When assessing whether the violation is serious, particular consideration has to be given to whether the act concerned

1. has been preceded by particular planning, 2. was part of criminal activities conducted in an organised form, 3. was conducted on a large scale, 4. was otherwise of a particularly dangerous nature. Anyone who has violated an injunction issued with a penalty of a fine

pursuant to Article 9 b, must not be held liable for infringements covered by the injunction.

Responsibility is assigned under Chapter 23 of the Criminal Code for attempting to commit or preparation of topography violation or serious topography violation.

The prosecutor may initiate a prosecution for violations only if the prosecution is motivated for being in the public interest. Act (2020:543).

This Act enters into force on the 1 September 2020.

1 Latest version 2005:304. 1

 Lag (2020:543) om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter

1

Svensk författningssamling

Lag om ändring i lagen (1992:1685) om skydd för kretsmönster för halvledarprodukter

Utfärdad den 17 juni 2020

Enligt riksdagens beslut1 föreskrivs att 9 § lagen (1992:1685) om skydd för

kretsmönster för halvledarprodukter ska ha följande lydelse.

9 §2 Den som uppsåtligen eller av grov oaktsamhet vidtar en åtgärd som

innebär intrång i rätten enligt 2 § döms för kretsmönsterbrott till böter eller

fängelse i högst två år.

Om brottet begåtts uppsåtligen och är att anse som grovt, döms för grovt

kretsmönsterbrott till fängelse i lägst sex månader och högst sex år. Vid

bedömningen av om brottet är grovt ska det särskilt beaktas om gärningen

1. har föregåtts av särskild planering,

2. har utgjort ett led i en brottslighet som utövats i organiserad form,

3. har varit av större omfattning, eller

4. annars har varit av särskilt farlig art.

Den som har överträtt ett vitesförbud enligt 9 b § får inte dömas till ansvar

för intrång som omfattas av förbudet.

För försök eller förberedelse till kretsmönsterbrott eller grovt kretsmönster-

brott döms det till ansvar enligt 23 kap. brottsbalken.

Åklagaren får väcka åtal för brott endast om åtal är motiverat från allmän

synpunkt.

Denna lag träder i kraft den 1 september 2020.

På regeringens vägnar

MORGAN JOHANSSON

Liv Bernitz

(Justitiedepartementet)

1 Prop. 2019/20:149, bet. 2019/20:NU18, rskr. 2019/20:312. 2 Senaste lydelse 2005:304.

SFS 2020:543 Publicerad

den 18 juni 2020


Legislación Enmienda (1 texto(s)) Enmienda (1 texto(s)) Referencia del documento de la OMC
IP/N/1/SWE/4
IP/N/1/SWE/L/3
Datos no disponibles.

N° WIPO Lex SE219