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主要文本 主要文本 德语 Gesetz vom 19. Mai 1999 über den Schutz von Topographien von Halbleitererzeugnissen (Fassung 01.07.2021)     

 

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立法 取代 (2 文本) 取代 (2 文本)

• 1999 年 5 月 19 日半导体产品布图设计保护法 (LI065)
• 集成电路布图设计保护法（集成电路法） (LI047)

被以下文本实施 (1 文本) 被以下文本实施 (1 文本)

• 集成电路布图设计保护实施细则 (LI066)